致力于表面清洗剂研发生产一站式工业清洗解决方案提供商
希尔硅片清洗剂是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂，清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，能有效提高外延或扩散工序的成品率，主要是应用于各种硅片切割与抛光后的清洗。
应用领域：用于半导体芯片、硅片、元器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
√ 清洗硅粉与颗粒物效果好，洁净度高
√ 对工件表面无腐蚀，不变色，无斑白点
√ 原液浓度高，槽液寿命长，可循环使用
√ 清洗效果好，无残留，不影响导电性能
√ 水基环保，无毒，无闪点，不燃不爆
√ 符合voc指标要求和欧盟RoHS认证
清洗除油快 不腐蚀 易漂洗 环保无味不伤手
| 外观 | 无色至微黄色液体 | 密度 | 1.00-1.01g/L |
| pH | 7-9（工作液） | 安全 | 不可燃，无腐蚀 |
| 环保 | 无磷，不含卤素，符合欧盟RoHS要求 | ||
恒温浸泡清洗/超声波清洗/平面线清洗
按比例稀释成工作液后，加热至50-60度，恒温浸泡5-10分钟，或超声波清洗2-3分钟。对于重污垢工件，延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。
1、定期检查槽液温度、液位，及时补水及相应比例补加原液。
2、按规定时间定期更换槽液。
